晶圆制造工艺流程
半导体晶圆制造是将高纯度硅材料加工成可用于芯片制造的晶圆片的过程。
整个流程包括硅提纯、单晶生长、切割、研磨、抛光和清洗等多个步骤。
晶圆制造主要步骤
- 硅提纯:将石英砂还原为多晶硅(纯度99.999999999%,即11个9)
- 拉单晶:用Czochralski法生长单晶硅锭
- 切割:用金刚石线切割成薄片
- 研磨:去除切割损伤层
- 抛光:CMP化学机械抛光
- 清洗:去除表面污染物
半导体晶圆制造是将高纯度硅材料加工成可用于芯片制造的晶圆片的过程。
整个流程包括硅提纯、单晶生长、切割、研磨、抛光和清洗等多个步骤。